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專業致力于提供電子行業的制造設備及工藝流程解決方案的plasma等離子體高新技術企業

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真空式等離子處理系統CRF-VPO-10L-S
2

真空式等離子處理系統CRF-VPO-10L-S

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1000
型號:
CRF-VPO-10L-S
所屬分類
真空系列
數量
-
+
庫存:
0
2
產品概述
參數
設備參數
產品特點
超大處理空間,提升處理產能,采用PLC+觸摸屏控制系統,精準的控制設備運行;
可按照客戶要求定制設備腔體容量和層數,滿足客戶的需求;保養維修成本低,便于客戶成本控制;
高精度,快響應,良好的操控性和兼容性,完善的功能和專業的技術支持。
 
應用范圍
真空等離子清洗機適用于印制線路板行業,半導體IC領域、硅膠、塑膠、聚合體領域,汽車電子行業,航空工業等。印制線路板行業:高頻板等離子表面活化,多層板表面清潔、去鉆污、軟板、軟硬結合板表面清潔、去鉆污,軟板補強前活化。半導體IC領域:COB、COG、COF、ACF工藝,用于打線、焊接前的清洗;硅膠、塑膠、聚合體領域硅膠、塑膠、聚合體的表面粗化、刻蝕、活化。
 
真空等離子清洗機生產廠家誠峰智造使用的等離子體是被電離產生的氣體,它包括電子、離子和自由基等物質。等離子體與外加磁場相互作用影響,這種作用會影響其內部磁場中的帶電離子,提高了等離子體的流體特性,進而造成集團效應如流動性、起伏、不穩定和自組織性。每種等離子體中的顆粒都具備相對單獨運動能量分布,而且每種顆粒所保持的能量并不可以一直維持等值均衡。等離子體內部能量由熱能、電場能和輻射場構成,它們互相影響、互相轉換,使等離子體在一個更寬的范疇內,在相互連接多維度參數空間存在。

在觸碰等離子體后,材料都是會產生一系列物理、化學反應。等離子體生產技術生產廠家在完成材料生產加工生產制造的同時,也完成了對材料自身的改性,提升了材料的額外使用價值。真空等離子清洗機由真空發生系統、電子控制系統、等離子發生器、真空腔、機械等好多個部分構成,可依據顧客的特別要求,訂制客戶滿意的真空設備。真空清洗機采用數控加工技術,自動化技術水平高;具備高精密的控制設備;由于是在真空環境中開展處理,不會造成環境污染,確保清洗表層不會受到二次污染。

真空等離子清洗機可用于聚四氟及聚四氟化合物的蝕刻,塑膠、夾層玻璃、瓷器的表層活性清洗,也可用以汽車電子產品、電子器件、PCB生產制造等精密加工行業。
未找到相應參數組,請于后臺屬性模板中添加

 

名稱(Name)

真空式等離子處理系統

型號(Model)

CRF-VPO-10L-S

控制系統(Control system)

PLC+觸摸屏

電源(Power supply)

380V/AC,50/60Hz, 3kw

射頻電源功率(RF Power)

600W/13.56MHz

容量(Volume )

120L(Option)

層數(Electrode of plies )

8(Option)

有效處理面積(Area)

400(L)*300(W)(Option)

氣體通道(Gas)

兩路工作氣體可選:Ar、N2、H2、CF4、O2

外形(Appearance )

鈑金結構

 

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