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4大影響小型等離子處理器使用的因素

  • 分類:技術支持
  • 作者:等離子清洗機-CRF plasma等離子設備-等離子表面處理機廠家-誠峰智造
  • 來源:低溫等離子設備生產廠家
  • 發布時間:2021-07-31
  • 訪問量:

【概要描述】? ? ? ?隨著科技的進步,小型等離子處理器在現代工業上高速發展,原因也很容易,挑選小型等離子處理器是因為它工作作簡單、工作效率高、成本低、生態環保且除膠后表面光潔。下面是由誠峰智造小編為大伙介紹等離子除膠機在使用中四大影響因素,我希望能幫助到大伙。 一、小型等離子處理器調整合適的頻率 ? ? ? ?頻點越高,氧氣就越容易電離形成等離子體。頻點過高,導致電子器件震幅低于其平均自由程,則電子器件與空氣分子撞擊的幾率反而減小,使電離率下降。經常使用的頻率是13.56MHz2.45GHZ。 二、小型等離子處理器調整合適功率 ? ? ? ?對于一定量的空氣,功率大,等離子體中的活性顆粒密度大,除膠速度快;但當功率增加到一定值時,反應能耗的活性離子達到飽滿,功率再大,除膠速度也不會顯著增加。由于功率大,基板溫度高,應根據技術要求調節功率。 三、小型等離子處理器調整合適的真空值 ? ? ? ?適當的真空值可以增加電子設備運動的平均自由程,從電場獲得的能量大,有利于電離。其他當O2流量必須是守時的時候,真空值越高,氧氣的相對份額就越大,活性顆粒的濃度就越大。真空值過大,則活性粒子濃度反而(降)低。 等離子除膠機,就選CRF,自主研發生產,擁有自己的專利證書 四、小型等離子處理器O2流量的調整 ? ? ? ?O2流量大,活性粒子密度大,除膠速率加速;但流量太大,則離子的復合概率增大,電子器件運動的平均自由程縮短,電離強度反而(降)低。如果反應室的壓力保持不變,流量增加,抽出的空氣量也會增加,不參與反應的活性顆粒的抽出量也會增加,因此流量增加對除膠速率的影響不是很顯著。 ? ? ? ?以上便是誠峰智造小型等離子處理器廠家為大伙整理分享,是不是對等離子除膠機的使用有了更深入的了解,如果您還有什么疑問,歡迎您咨詢。

4大影響小型等離子處理器使用的因素

【概要描述】? ? ? ?隨著科技的進步,小型等離子處理器在現代工業上高速發展,原因也很容易,挑選小型等離子處理器是因為它工作作簡單、工作效率高、成本低、生態環保且除膠后表面光潔。下面是由誠峰智造小編為大伙介紹等離子除膠機在使用中四大影響因素,我希望能幫助到大伙。
一、小型等離子處理器調整合適的頻率
? ? ? ?頻點越高,氧氣就越容易電離形成等離子體。頻點過高,導致電子器件震幅低于其平均自由程,則電子器件與空氣分子撞擊的幾率反而減小,使電離率下降。經常使用的頻率是13.56MHz2.45GHZ。
二、小型等離子處理器調整合適功率
? ? ? ?對于一定量的空氣,功率大,等離子體中的活性顆粒密度大,除膠速度快;但當功率增加到一定值時,反應能耗的活性離子達到飽滿,功率再大,除膠速度也不會顯著增加。由于功率大,基板溫度高,應根據技術要求調節功率。
三、小型等離子處理器調整合適的真空值
? ? ? ?適當的真空值可以增加電子設備運動的平均自由程,從電場獲得的能量大,有利于電離。其他當O2流量必須是守時的時候,真空值越高,氧氣的相對份額就越大,活性顆粒的濃度就越大。真空值過大,則活性粒子濃度反而(降)低。
等離子除膠機,就選CRF,自主研發生產,擁有自己的專利證書
四、小型等離子處理器O2流量的調整
? ? ? ?O2流量大,活性粒子密度大,除膠速率加速;但流量太大,則離子的復合概率增大,電子器件運動的平均自由程縮短,電離強度反而(降)低。如果反應室的壓力保持不變,流量增加,抽出的空氣量也會增加,不參與反應的活性顆粒的抽出量也會增加,因此流量增加對除膠速率的影響不是很顯著。
? ? ? ?以上便是誠峰智造小型等離子處理器廠家為大伙整理分享,是不是對等離子除膠機的使用有了更深入的了解,如果您還有什么疑問,歡迎您咨詢。

  • 分類:技術支持
  • 作者:等離子清洗機-CRF plasma等離子設備-等離子表面處理機廠家-誠峰智造
  • 來源:低溫等離子設備生產廠家
  • 發布時間:2021-07-31 12:53
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詳情

       隨著科技的進步,小型等離子處理器在現代工業上高速發展,原因也很容易,挑選小型等離子處理器是因為它工作作簡單、工作效率高、成本低、生態環保且除膠后表面光潔。下面是由誠峰智造小編為大伙介紹等離子除膠機在使用中四大影響因素,我希望能幫助到大伙。
一、小型等離子處理器調整合適的頻率
       頻點越高,氧氣就越容易電離形成等離子體。頻點過高,導致電子器件震幅低于其平均自由程,則電子器件與空氣分子撞擊的幾率反而減小,使電離率下降。經常使用的頻率是13.56MHz2.45GHZ。

小型等離子處理器二、小型等離子處理器調整合適功率
       對于一定量的空氣,功率大,等離子體中的活性顆粒密度大,除膠速度快;但當功率增加到一定值時,反應能耗的活性離子達到飽滿,功率再大,除膠速度也不會顯著增加。由于功率大,基板溫度高,應根據技術要求調節功率。
三、小型等離子處理器調整合適的真空值
       適當的真空值可以增加電子設備運動的平均自由程,從電場獲得的能量大,有利于電離。其他當O2流量必須是守時的時候,真空值越高,氧氣的相對份額就越大,活性顆粒的濃度就越大。真空值過大,則活性粒子濃度反而(降)低。
等離子除膠機,就選CRF,自主研發生產,擁有自己的專利證書
四、小型等離子處理器O2流量的調整
       O2流量大,活性粒子密度大,除膠速率加速;但流量太大,則離子的復合概率增大,電子器件運動的平均自由程縮短,電離強度反而(降)低。如果反應室的壓力保持不變,流量增加,抽出的空氣量也會增加,不參與反應的活性顆粒的抽出量也會增加,因此流量增加對除膠速率的影響不是很顯著。
       以上便是誠峰智造小型等離子處理器廠家為大伙整理分享,是不是對等離子除膠機的使用有了更深入的了解,如果您還有什么疑問,歡迎您咨詢。

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