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等離子設備在臭味凈化的應用
- 分類：業界動態
- 作者：等離子清洗機-CRF plasma等離子設備-等離子表面處理機廠家-誠峰智造
- 來源：低溫等離子設備生產廠家
- 發布時間：2021-07-24
- 訪問量：
【概要描述】? ? ? ?大家都知道等離子設備的應用很廣泛，但是它在惡臭中怎么應用？一個客戶打電話問我們銷售部門的一個很有深度的問題，作為深圳誠峰智造的（專）業生產等離子清洗機廠家來告訴大家：等離子設備在臭味凈化的應用。在我們生活環境中臭味一般都是蛋白質組成的，但是怎么用等離子設備技術來除臭的主要原理和工藝流程： ? ? ? ?該方法利用等離子設備中的等離子體中的很多活性顆粒直接分解去除有毒、有害、難降解氣體污染物。等離子設備發射的離子與空氣中的灰塵粒子和固體粒子相撞，出現粒子的電力聚合作用，形成的大粒子用自己的重力沉降，達到凈化目的，發射的離子與室內靜電、異味等相互作用，同時有效破壞空氣中細（菌）的生存環境，（降）低室內細（菌）的濃度在常溫常壓下，通過（尖）端陡峭、脈寬窄(納秒級)的高壓脈沖電弧放電，出現很多的較高能電子和-O,-OH,-HO2等活性顆粒，這些較高能活性顆粒具有很強的離子能量，可以將含硫化合物和其它烴類、醇類氧化成CO2和H2O，中和分解臭味中的有（機）物分子，使污染物轉化為無害物質。歐洲主要用于醫院、辦公大樓、公共大廳等，近年來逐漸發展應用較高能等離子設備凈化系統，荷蘭、瑞典等有很多應用實例。 1、等離子設備中有(機)物的降解機理主要包括以下過程: (1)電子的作用下，出現了強氧化自由基-O,-OH,-HO2。 (2)有（機）分子受高能電子碰撞的刺激，原子鍵斷裂，形成小碎片基團和原子。 (3)-O、-OH、-HO2與原子、有機分子、破碎的基團、其他自由基等發生一系列反應，有（機）分子氧化分解為CO、CO2、H2O的惡臭成分經過處理后，變成SO3、NOx、CO2、H2O等小分子 2、工藝流程等離子體除臭工藝流程 工藝流程：介質阻擋電離法介質阻擋電離是一種在電離空間中插入電介質阻擋電離的方法，其介質可以覆蓋一個或兩個電極，也可以懸掛在電離空間中（央）。微電離的的存在要求了電荷在微電離中的運動，然而使其在電極間均勻穩定分布。結果表明，介質阻擋電離具有均勻、漫射、穩定的特點，同時也顯示了低壓輝光放電的優勢。 ? ? ? ?上述是我們研發部門總結出來的一種等離子設備在凈化臭氣方面的應用，有需要的朋友歡迎來咨詢一家以實力說話的公司。
等離子設備在臭味凈化的應用
【概要描述】? ? ? ?大家都知道等離子設備的應用很廣泛，但是它在惡臭中怎么應用？一個客戶打電話問我們銷售部門的一個很有深度的問題，作為深圳誠峰智造的（專）業生產等離子清洗機廠家來告訴大家：等離子設備在臭味凈化的應用。在我們生活環境中臭味一般都是蛋白質組成的，但是怎么用等離子設備技術來除臭的主要原理和工藝流程：
? ? ? ?該方法利用等離子設備中的等離子體中的很多活性顆粒直接分解去除有毒、有害、難降解氣體污染物。等離子設備發射的離子與空氣中的灰塵粒子和固體粒子相撞，出現粒子的電力聚合作用，形成的大粒子用自己的重力沉降，達到凈化目的，發射的離子與室內靜電、異味等相互作用，同時有效破壞空氣中細（菌）的生存環境，（降）低室內細（菌）的濃度在常溫常壓下，通過（尖）端陡峭、脈寬窄(納秒級)的高壓脈沖電弧放電，出現很多的較高能電子和-O,-OH,-HO2等活性顆粒，這些較高能活性顆粒具有很強的離子能量，可以將含硫化合物和其它烴類、醇類氧化成CO2和H2O，中和分解臭味中的有（機）物分子，使污染物轉化為無害物質。歐洲主要用于醫院、辦公大樓、公共大廳等，近年來逐漸發展應用較高能等離子設備凈化系統，荷蘭、瑞典等有很多應用實例。
1、等離子設備中有(機)物的降解機理主要包括以下過程:
(1)電子的作用下，出現了強氧化自由基-O,-OH,-HO2。
(2)有（機）分子受高能電子碰撞的刺激，原子鍵斷裂，形成小碎片基團和原子。
(3)-O、-OH、-HO2與原子、有機分子、破碎的基團、其他自由基等發生一系列反應，有（機）分子氧化分解為CO、CO2、H2O的惡臭成分經過處理后，變成SO3、NOx、CO2、H2O等小分子
2、工藝流程等離子體除臭工藝流程
工藝流程：介質阻擋電離法介質阻擋電離是一種在電離空間中插入電介質阻擋電離的方法，其介質可以覆蓋一個或兩個電極，也可以懸掛在電離空間中（央）。微電離的的存在要求了電荷在微電離中的運動，然而使其在電極間均勻穩定分布。結果表明，介質阻擋電離具有均勻、漫射、穩定的特點，同時也顯示了低壓輝光放電的優勢。
? ? ? ?上述是我們研發部門總結出來的一種等離子設備在凈化臭氣方面的應用，有需要的朋友歡迎來咨詢一家以實力說話的公司。
- 分類：業界動態
- 作者：等離子清洗機-CRF plasma等離子設備-等離子表面處理機廠家-誠峰智造
- 來源：低溫等離子設備生產廠家
- 發布時間：2021-07-24 10:01
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大家都知道等離子設備的應用很廣泛，但是它在惡臭中怎么應用？一個客戶打電話問我們銷售部門的一個很有深度的問題，作為深圳誠峰智造的（專）業生產等離子清洗機廠家來告訴大家：等離子設備在臭味凈化的應用。在我們生活環境中臭味一般都是蛋白質組成的，但是怎么用等離子設備技術來除臭的主要原理和工藝流程：
該方法利用等離子設備中的等離子體中的很多活性顆粒直接分解去除有毒、有害、難降解氣體污染物。等離子設備發射的離子與空氣中的灰塵粒子和固體粒子相撞，出現粒子的電力聚合作用，形成的大粒子用自己的重力沉降，達到凈化目的，發射的離子與室內靜電、異味等相互作用，同時有效破壞空氣中細（菌）的生存環境，（降）低室內細（菌）的濃度在常溫常壓下，通過（尖）端陡峭、脈寬窄(納秒級)的高壓脈沖電弧放電，出現很多的較高能電子和-O,-OH,-HO2等活性顆粒，這些較高能活性顆粒具有很強的離子能量，可以將含硫化合物和其它烴類、醇類氧化成CO2和H2O，中和分解臭味中的有（機）物分子，使污染物轉化為無害物質。歐洲主要用于醫院、辦公大樓、公共大廳等，近年來逐漸發展應用較高能等離子設備凈化系統，荷蘭、瑞典等有很多應用實例。
1、等離子設備中有(機)物的降解機理主要包括以下過程:
(1)電子的作用下，出現了強氧化自由基-O,-OH,-HO2。
(2)有（機）分子受高能電子碰撞的刺激，原子鍵斷裂，形成小碎片基團和原子。
(3)-O、-OH、-HO2與原子、有機分子、破碎的基團、其他自由基等發生一系列反應，有（機）分子氧化分解為CO、CO2、H2O的惡臭成分經過處理后，變成SO3、NOx、CO2、H2O等小分子
2、工藝流程等離子體除臭工藝流程
工藝流程：介質阻擋電離法介質阻擋電離是一種在電離空間中插入電介質阻擋電離的方法，其介質可以覆蓋一個或兩個電極，也可以懸掛在電離空間中（央）。微電離的的存在要求了電荷在微電離中的運動，然而使其在電極間均勻穩定分布。結果表明，介質阻擋電離具有均勻、漫射、穩定的特點，同時也顯示了低壓輝光放電的優勢。
上述是我們研發部門總結出來的一種等離子設備在凈化臭氣方面的應用，有需要的朋友歡迎來咨詢一家以實力說話的公司。
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