五個方向闡述-常壓等離子清洗技術的發展

• 分類：業界動態
• 作者：等離子清洗機-CRF plasma等離子設備-等離子表面處理機廠家-誠峰智造
• 來源：低溫等離子設備生產廠家
• 發布時間：2021-07-22
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【概要描述】? ? ? ?由于常壓等離子清洗技術在制備耐磨、耐熱、耐腐蝕、絕緣和隔熱等各種不同性能的涂層時，具有很多獨特的優越性。因此，國外廣泛重視等離子噴涂技術的發展。常壓等離子清洗技術的發展如下: 1.開發高能常壓等離子清洗設備 高能常壓等離子清洗設備為噴槍提供了高的輸入功率，使工作氣體得到（完）全的分解和電離，增加了等離子體的熱焓直和三種壓縮效應，從而提高了涂層的結合強度和涂層的致密度。 2、發展高焓、高速等離子 在研制高能量等離子噴涂設備的同時，需要對等離子槍的結構進行相應的調整，以滿足常壓等離子清洗的需要。 3、超細粉末的研制和超細粉末送粉器 超細粉末又稱非自流粉末。在5^20微米范圍內，超細粉體的出現極大地改善和提高了涂膜質量。然而，這種粉末的流動性很差，所以它被稱為非自流粉末。 4、常壓等離子清洗工藝過程的自動化 由于常壓等離子清洗工藝存在勞動條件差，工作過程中出現高頻噪聲、紫外線和有害氣體等缺陷。因此，必須不斷地提高等離子噴涂工藝過程的機械化和自動化程度以及平用數字程序控制系統。 5、常壓等離子清洗技術的基礎理論科學研究 常壓等離子清洗技術的基本理論基礎研究包含:表面技術科學研究、常壓等離子清洗基本理論基礎研究、涂層結合機理與涂層結構科學研究、噴粉顆粒溫度與速度測試、涂層性能科學研究等。 ? ? ? ?綜上五個方面闡述常壓等離子清洗技術的發展，朋友們可以相互探討，有需要探討的問題，歡迎大家積極咨詢CRF的小編。