深圳市誠峰智造有限公司，歡迎您！
電話：13632675935/0755-3367 3020
新聞中心
電解等離子體設備在拋光液處理中的實驗及數據分析研究
- 分類：技術支持
- 作者：等離子清洗機-CRF plasma等離子設備-等離子表面處理機廠家-誠峰智造
- 來源：低溫等離子設備生產廠家
- 發布時間：2021-07-21
- 訪問量：
【概要描述】? ? ? ?電解等離子體設備拋光處理技術是一種特殊的加工方式，它是一種“綠色”、高(效)率的金屬物品拋光處理的特殊方式，它根據物品與拋光液之間形成的氣層進行放電處理。它的拋光液是低濃度的鹽溶液，并能根據補充拋光處理鹽而循環使用，解決了機械拋光難加工形狀復雜物品的難題，解決了化學、電解拋光等難以避免的污染問題，具有廣闊的應用前景。 ? ? ? ?探討了這種拋光處理方式能達到微觀整平的原因，揭示了電解液等離子體設備拋光處理的基本原理。根據相關理論，研究了拋光液成分對磨光功效的影響，發現電解液等離子體設備研磨拋光是一種動態環節，它的放電去除率高，對反應產生速度快是拋光拋光的前提。通過結果和剖析，確定了在拋光液中以差異方式潛入物品時的伏安特性曲線，以及電流、電壓隨時間的改變曲線，確定出合理的物品下潛方式。采用相關儀器，對不銹鋼試件的表層狀態、粗糙度、耐蝕性、微觀形貌、表層化學成分、微觀形貌、表層化學成分及顯微便度進行了研究。通過分析等離子體設備拋光材料的導熱和獲得物體表面勢能的方法，發現物體表面熱流密度是影響物體表面勢能的重要因素，其主要來源是電子沖擊。試驗表明，在穩定的研磨狀態下，材料的去除速度與電流密度成正比關系。 ? ? ? ?根據等離子體設備對物品拋光處理電壓、濃度、溫度、物品潛入深度、物品祛除速度等因素的剖析，對試驗結果進行了研究。建立了表面粗糙度隨拋光時間變化的數學分析模型，確定在一定條件下，經不同拋光處理時間后，試件表面真實粗糙度的實際值，利用這些數據與數學分析模型進行非線性擬合，通過對數學分析模型的擬合修正，得到的數學分析模型與試驗數據吻合較好。并對拋光液溫度的差異條件下，分別進行了兩組試驗，查驗修正后的數學分析模型與實際拋光處理基本一致。
電解等離子體設備在拋光液處理中的實驗及數據分析研究
【概要描述】? ? ? ?電解等離子體設備拋光處理技術是一種特殊的加工方式，它是一種“綠色”、高(效)率的金屬物品拋光處理的特殊方式，它根據物品與拋光液之間形成的氣層進行放電處理。它的拋光液是低濃度的鹽溶液，并能根據補充拋光處理鹽而循環使用，解決了機械拋光難加工形狀復雜物品的難題，解決了化學、電解拋光等難以避免的污染問題，具有廣闊的應用前景。
? ? ? ?探討了這種拋光處理方式能達到微觀整平的原因，揭示了電解液等離子體設備拋光處理的基本原理。根據相關理論，研究了拋光液成分對磨光功效的影響，發現電解液等離子體設備研磨拋光是一種動態環節，它的放電去除率高，對反應產生速度快是拋光拋光的前提。通過結果和剖析，確定了在拋光液中以差異方式潛入物品時的伏安特性曲線，以及電流、電壓隨時間的改變曲線，確定出合理的物品下潛方式。采用相關儀器，對不銹鋼試件的表層狀態、粗糙度、耐蝕性、微觀形貌、表層化學成分、微觀形貌、表層化學成分及顯微便度進行了研究。通過分析等離子體設備拋光材料的導熱和獲得物體表面勢能的方法，發現物體表面熱流密度是影響物體表面勢能的重要因素，其主要來源是電子沖擊。試驗表明，在穩定的研磨狀態下，材料的去除速度與電流密度成正比關系。
? ? ? ?根據等離子體設備對物品拋光處理電壓、濃度、溫度、物品潛入深度、物品祛除速度等因素的剖析，對試驗結果進行了研究。建立了表面粗糙度隨拋光時間變化的數學分析模型，確定在一定條件下，經不同拋光處理時間后，試件表面真實粗糙度的實際值，利用這些數據與數學分析模型進行非線性擬合，通過對數學分析模型的擬合修正，得到的數學分析模型與試驗數據吻合較好。并對拋光液溫度的差異條件下，分別進行了兩組試驗，查驗修正后的數學分析模型與實際拋光處理基本一致。
- 分類：技術支持
- 作者：等離子清洗機-CRF plasma等離子設備-等離子表面處理機廠家-誠峰智造
- 來源：低溫等離子設備生產廠家
- 發布時間：2021-07-21 11:33
- 訪問量：
詳情
電解等離子體設備拋光處理技術是一種特殊的加工方式，它是一種“綠色”、高(效)率的金屬物品拋光處理的特殊方式，它根據物品與拋光液之間形成的氣層進行放電處理。它的拋光液是低濃度的鹽溶液，并能根據補充拋光處理鹽而循環使用，解決了機械拋光難加工形狀復雜物品的難題，解決了化學、電解拋光等難以避免的污染問題，具有廣闊的應用前景。
探討了這種拋光處理方式能達到微觀整平的原因，揭示了電解液等離子體設備拋光處理的基本原理。根據相關理論，研究了拋光液成分對磨光功效的影響，發現電解液等離子體設備研磨拋光是一種動態環節，它的放電去除率高，對反應產生速度快是拋光拋光的前提。通過結果和剖析，確定了在拋光液中以差異方式潛入物品時的伏安特性曲線，以及電流、電壓隨時間的改變曲線，確定出合理的物品下潛方式。采用相關儀器，對不銹鋼試件的表層狀態、粗糙度、耐蝕性、微觀形貌、表層化學成分、微觀形貌、表層化學成分及顯微便度進行了研究。通過分析等離子體設備拋光材料的導熱和獲得物體表面勢能的方法，發現物體表面熱流密度是影響物體表面勢能的重要因素，其主要來源是電子沖擊。試驗表明，在穩定的研磨狀態下，材料的去除速度與電流密度成正比關系。
根據等離子體設備對物品拋光處理電壓、濃度、溫度、物品潛入深度、物品祛除速度等因素的剖析，對試驗結果進行了研究。建立了表面粗糙度隨拋光時間變化的數學分析模型，確定在一定條件下，經不同拋光處理時間后，試件表面真實粗糙度的實際值，利用這些數據與數學分析模型進行非線性擬合，通過對數學分析模型的擬合修正，得到的數學分析模型與試驗數據吻合較好。并對拋光液溫度的差異條件下，分別進行了兩組試驗，查驗修正后的數學分析模型與實際拋光處理基本一致。
關鍵詞：
掃二維碼用手機看
