真空等離子清洗機相較于大氣等離子清洗機有什么特點

• 分類：業界動態
• 作者：等離子清洗機-CRF plasma等離子設備-等離子表面處理機廠家-誠峰智造
• 來源：
• 發布時間：2021-07-12
• 訪問量：

【概要描述】? ? ? ?真空等離子清洗機是一種釋放等離子體來去除表面污垢的清洗設備。真空等離子清洗機屬于電子工業干洗，是在真空泵生產過程中產生符合清洗要求的真空狀態，等離子清洗可通過既定的氣體分子進行真空、電離等特殊場合，如低壓氣體亮等。簡而言之，等離子體清洗要求在真空中進行(通常約100pa)，所以要求真空泵。 ? ? ? ?真空等離子清洗機的通常工藝是：首先，將工件固定在真空室內，經由真空泵等設備啟動真空電離到十pa左右；然后將等離子清洗體：O2、H2、Ar、N2的不同氣體和清洗材料根據工藝要求導入真空室，并保持壓力約為100pa；在真空室內的電極和接地裝置之間加入高頻電壓，使氣體滲進去，等離子體被輝光放電離化；當等離子體可以覆蓋在真空室內后開始清洗工作，清洗過程將持續數十秒到數分鐘。全過程依靠等離子體在電磁場中的運動，轟擊處理物體表面，多數需要高能量、低電壓進行物理清洗。在轟擊表面之前，原子和離子的速度達到了。由于等離子體加速，所以要求很高的能量，所以等離子體中的原子和離子可以加速。在原子碰撞之前，要增加平均距離，即路徑越長，離子轟擊潔凈產品表面的幾率就越大，就要求低電壓。這樣就達到了表面處理、清洗、刻蝕的效果(清洗過程在一定程度上是一個輕微的刻蝕過程)；清洗之后，污垢和氣體排放，空氣回歸正常大氣壓。 ? ? ? ? 真空等離子清洗機清潔過程中，真空泵控制真空腔時，氣體的流速決定了真空泵的發光顏色：如果顏色重，真空度低，氣體流量大；若超長真空而氣體流量太小，真空泵的真空度就是根據規定要求的處理效果來確定。 ? ? ? ?真空等離子清洗機適用于混合集成電路、單片集成電路套管、陶瓷襯底的清洗，可用于半導體、厚膜電路、封裝前元件、硅蝕刻、真空電子、連接器、繼電器等的清洗。也可用于塑料、橡膠、金屬和陶瓷的表面（活）化以及科學試驗。